国产光刻机最后一块拼图将完成,美院士:中国学者不睡觉?

众所周知,华为作为在5G等技术领域领先的中国知名科技企业,因对美国构成了“威胁”而遭到数轮制裁,一度陷入缺芯危机,国内也真正意识到掌握光刻机等核心技术的重要性,并逐步加大了半导体领域的研发力度。

近期央视报道了我国光刻机的又一项技术突破,这将是国产光刻机的最后一块拼图,在看到我国如此迅猛的研发速度后,有美国院士调侃称,中国学者都不用睡觉的吗?那么这最后一块拼图究竟是什么?中国速度为何使得美国学者赞叹不已?

国产芯片有很大进步空间

不可否认的是,中国半导体行业确实与一些发达国家存在一定差距。就拿美国来说,全球第一块半导体诞生于美国贝尔实验室,一定程度上促进了电子计算机的发展,其后微软操作系统的崛起也证明了美国的科技实力。

而在芯片领域,美国不仅掌握了光刻机的核心零部件,集成电路设计必备的相关工程软件也被美国掌握,而日本则掌控着光刻胶技术。

这也就是说,制造芯片本就不是一件易事,生产芯片的关键设备技术也被一些西方国家掌握,荷兰阿斯麦光刻机制造技术一流,但是其关键技术也由美国掌握。

与之相比,受时势限制,为获取最大利益,我国科技企业长久以来受“造不如买”的传统观念影响,高端芯片极度依赖进口和代加工,加之为限制我国科技发展而签订的《瓦森纳协定》影响,国内半导体制造产业起步较晚。这种短板在经美国多次技术封锁后被放大,我国也意识到自研芯片的重要性,开始布局相关科研工作,中科院更是立下“军令状”。

国产光刻机再次“破冰”

中国科学家日夜兼程、不辞劳苦地刻苦钻研,终于在光刻机领域取得重大突破。此前清华大学成功突破EUV光源技术,中科院攻克了双工作台技术难关,这意味着光刻机双工作台、光源和光学镜头三大核心组件已完成两项技术突破。

更令人振奋的是,对于这最后一块拼图,近期央视报道了其最新消息。报道称,中科院高能物理所将承建此项目,负责安装国内首台高能同步辐射光源设备,当前其安装完成度高达70%。此外,我国科技企业中科科美研制的高端镀膜装置已经成功交付给上海微电子。

值得注意的是,当前全球范围内能够生产EUV光刻机镜头的只有德国蔡司,而且该公司也仅有大概20名工程师能够完成相关操作。而中科科美的光学镀膜设备精度已达到0.1纳米,这些超薄薄膜将大大降低国产光刻机镜头的制造压力。

美国院士:中国学者不用睡觉?

了解光刻机的朋友一定知道,其制造难度极大,目前全球没有任何一个国家能够独立生产,而在短短一年内,我国在光刻机三大核心部件领域就取得技术突破,这不可谓不是一个奇迹。

对于中国取得的卓越成就,很多外国学者惊叹不已。比如早在我国攻克量子芯片技术难关时,美国科学院院士就曾在一次中科大访问中调侃道,中国速度令人惊叹,甚至是心生恐惧,难度中国学者都不睡觉的吗?

这是教授对中国科研速度的友好称赞,也证明“星星之火可以燎原”。纵使在多领域内被西方国家卡脖子,这也只会刺 激中国更好很快发展,因为中华民族是压不倒的民族,不只是中国科学家,中国人始终拧着一股劲儿,这是中国独特的必胜法宝!

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